ASML

【ASML 技術簡單說｜晶片在變大，製造跟得上！全方位微影的整合能力💫】️

為了跑得更快、算得更多，AI 模型的參數量正以幾何倍數成長，這也讓單一晶片面積持續擴大，甚至逼近光罩尺寸的極限 (reticle limit) 📈

在這樣的情況下，微影系統的角色也開始改變。不再只是完成曝光，還必須整合建模、量測與補償能力，在圖形真正成像之前，就先預測並控制風險，成為一套高度整合的工程系統 ⚙️

📐系統能支援更大尺寸的光罩，同時維持掃描精度，讓大型設計還是可以在可控條件下完成曝光與成像 🔍
🧠運算式微影軟體在曝光前就先模擬圖形會「長成什麼樣子」，並及時修正，提升一次到位的成功率 🧩
🎯製程指紋（Process Fingerprint）補償將量測數據，即時轉化為劑量與網格校正動作，使圖形誤差能快速收斂、製程更穩定
✨ High NA EUV 降低複雜度，更高的數值孔徑（NA = 0.55）可減少多重曝光需求，提升圖形對比度與線寬均勻度💡

隨著 AI 晶片設計規模持續擴大，ASML 的微影系統透過 Holistic Lithography 的整合方式，讓這些接近物理極限的設計，能夠從設計藍圖走向穩定、可擴展的量產 🚀

你最想多了解哪一個部分？留個表情給艾小編 👀
❤️運算 😆補償 😮High NA

【ASML 益起說｜志工月出動！讓更多關心化為行動💓】

在 ASML，我們相信，真正的影響力不只來自技術創新，也來自每一個人對社會的實際投入。
今年 4 月，ASML 在全球展開年度志工月（Volunteer Month），邀請 ASMLers 走出日常工作場域，透過行動實際走訪並關懷在地社區，為環境與社會帶來正向影響🌱

今年的志工行動橫跨北、中、南，並與多個非營利組織合作，展開多元志工活動。從淨灘、森林與溪流棲地維護🌊，到長者數位陪伴、弱勢家庭資源整理，以及特殊需求族群陪伴活動，每一份投入，都是 ASMLers 積極參與、深耕在地的具體行動。

對 ASML 而言，企業社會責任不只是理念，更是持續落實於日常的行動。
我們也相信，無論大小，每一個行動，都有機會為社會帶來長遠而有意義的改變。